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双柱面紧缩场

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概要：双柱面紧缩场采用两个弯曲面互相垂直的抛物柱面校准馈源发出的球面波。副面首先校准一维波前形成柱面波，主面校准另外一维波前而获得平面波静区。单弯曲的反射面结构更易于加工，可采用面板负压成型工艺，成本相对较低。主面等效的焦径比大于单反射面紧缩场的焦径比，一定程度上可以减小空间衰减的不均匀，同时交叉极化也略有提升。但仍不能根除几何结构所带来固有的系统口面场交叉极化分量。双柱面紧缩场的优势在于反射面加工较为容易，成本大大降低。

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双柱面紧缩场

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产品详情

产品特点

a.等效焦距较长

b.交叉极化较低

c.暗室对背景电平影响较小

产品描述

双柱面紧缩场采用两个弯曲面互相垂直的抛物柱面校准馈源发出的球面波。副面首先校准一维波前形成柱面波，主面校准另外一维波前而获得平面波静区。单弯曲的反射面结构更易于加工，可采用面板负压成型工艺，成本相对较低。主面等效的焦径比大于单反射面紧缩场的焦径比，一定程度上可以减小空间衰减的不均匀，同时交叉极化也略有提升。但仍不能根除几何结构所带来固有的系统口面场交叉极化分量。双柱面紧缩场的优势在于反射面加工较为容易，成本大大降低。

型号参数

型号	静区尺寸 (米)	反射面尺寸 (米)	工作频率 (CHz)	幅度锥削 (dB)	幅度波纹 (dB)	相位波动 (度)	交叉极化 (dB)	暗室建议尺寸 (米)
C1010	1.0×1.0	主：2.5×2.4 副：2.1×2.4	5.0~110	1	±0.5	±5	-30	12.0×7.0×5.0
C2020	2.0×2.0	主：4.2×4.0 副：3.2×4.0	3.0~110	1	±0.5	±5	-30	18.0×12.0×8.5
C3030	3.0×3.0	主：6.4×6.2 副：5.0×6.2	1.5~110	1	±0.5	±5	-30	24.0×16.0×12.0
C4040	4.0×4.0	主：8.4×8.1 副：6.4×8.1	1.0~110	1	±0.5	±5	-30	32.0×24.0×16.0
C5050	5.0×5.0	主：10.4×10.1 副：8.0×10.1	0.8~110	1	±0.5	±5	-30	40.0×28.0×20.0